日本首台 ASML EUV 光刻机年末运抵：用于 Rapidus 晶圆厂试产

摘要： 当我们在玩魂斗罗中用武器打爆飞行舱后会爆出各种字母的武器根据字母的不同子弹效果也有所不同看到这里你肯定想到了风靡全球的合金弹头系列也有这种武器的设定没错魂斗罗作为之家月日消息日本经...

当我们在玩魂斗罗中用武器打爆飞行舱后，会爆出各种字母的武器，根据字母的不同，子弹效果也有所不同。 看到这里你肯定想到了，风靡全球的合金弹头系列，也有这种武器的设定 没错魂斗罗作为....

IT之家 11 月 15 日消息，《日本经济新闻》当地时间今日凌晨报道称，日本先进半导体代工企业 Rapidus 购入的 台 A L EUV 光刻机将于 2024 年 12 月中旬抵达北海道新千岁机场，这也将成为日本全国首台EUV 光刻设备。

根据 Rapidus 高管以往表态，该光刻机是较早期的 0.33 NA 型号，而非目前全球总量不足 10 台的 0.55 NA（High NA）款。

据悉本次整个空运任务将分多架次完成，新千岁机场还为这台对精度要求极高、不耐振动的“庞然大物”对机场颠簸不平的路面进行了重新铺设；此外 A L 已在千岁市建设了客户服务中心，将支持该系统的接收。

▲ A L 的 0.33 NA EUV 光刻机 NXE:3800E

按 Rapidus 此前的规划，该公司定于 2025 年 4 月启动先进制程原型线，该产线将拥有包括 EUV 光刻机在内的共计 200 余台设备。根据千岁市当地 的说法，Rapidus 的 IIM-1 晶圆厂截至上月底已完成 63% 的施工进度。

▲IIM-1 概念图

除 Rapidus 外，日本未来还有至少两家晶圆厂将先后导入先进的 EUV 光刻机：

美光 1-gamma（IT之家注：即 1c nm）制程 DRAM 内存需使用 EUV，广岛工厂预计于 2025 年内导入 EUV 光刻设备为 2026 年的量产做准备；控股子公司 JA 预定 2027 年投产的第二晶圆厂包含 6nm 产线，也需要 EUV 机台。